光伏產(chǎn)業(yè)對清潔生產(chǎn)的要求非?？量獭?span id="i8ii0ii" class="hrefStyle" style="font-size: 18px; padding: 0px; margin: 0px;">太陽能級的硅片雖然純凈度不需要達到電子級，但是6個9的純度也還是很高的。在切片等過程中，硅片或多或少會接觸到各種污染源，因此清洗顯得至關重要。等離子清洗是經(jīng)常用到的一種方法。

　　等離子清洗的應用，起源于20世紀初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應用越來越廣，目前已在眾多高科技領域中，居于關鍵技術的地位，等離子清洗技術對產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟和人類文明影響最大，首推電子資訊工業(yè)，尤其是半導體業(yè)與光電工業(yè)。等離子清洗已應用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗技術，就沒有今日這么發(fā)達的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外，等離子清洗技術也應用在光學工業(yè)、機械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上，而且是產(chǎn)品提升的關鍵技術，比如說光學元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機械的加工技術、人工關節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術的進步，才能開發(fā)完成。 等離子技術是一新興的領域，該領域結合等離子物理、等離子化學和氣固相界面的化學反應，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多種領域，包括化工、材料和電機，因此將極具挑戰(zhàn)性，也充滿機會，由于半導體和光電材料在未來得快速成長，此方面應用需求將越來越大。

　　2 等離子清洗技術的原理

　　2.1 什么是等離子體

　　等離子體是物質的一種存在狀態(tài)，通常物質以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態(tài)存在，如太陽表面的物質和地球大氣中電離層中的物質。這類物質所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài)，又稱位物質的第四態(tài)。

　　等離子體中存在下列物質。處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應過程中生成的紫外線；未反應的分子、原子等，但物質在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

　　2.2 如何用人工方法制得等離子體

　　除了在自己已存在的等離子體以外，用人工方法在一定范圍內(nèi)也可以制得等離子體。最早是在1927年，當水銀蒸氣在高壓電場中的放電時由科研人員發(fā)現(xiàn)等離子體。后面的發(fā)現(xiàn)是通過多種形式，如電弧放電、輝光放電、激光、火焰或者沖擊波等，都可以使處于低氣壓狀態(tài)的氣體物質轉變成等離子體狀態(tài)。

　　如在高頻電場中處于低氣壓狀態(tài)的氧氣、氮氣、甲烷、水蒸氣等氣體分子在輝光放電的情況下，可以分解出加速運動的原子和分子，這樣產(chǎn)生的電子和解離成點有正、負電荷的原子和分子。這樣產(chǎn)生的電子在電場中加速時會獲得高能量，并與周圍的分子或原子發(fā)生碰撞，結果使分子和原子中又激發(fā)出電子，而本身又處于激發(fā)狀態(tài)或離子狀態(tài)，這時物質存在的狀態(tài)即為等離子體狀態(tài)。 在一般資料中?？梢砸姷接孟率龇磻奖硎龅牡入x子體形成過程。

　　如氧氣等離子體形成過程即可用下列6個反應式來表示：