超聲波清洗機原理主要是通過換能器，將功率超聲頻源的聲能轉(zhuǎn)換成機械振動，通過清洗槽壁將超聲波輻射到槽子中的清洗液。由于受到超聲波的輻射，使槽內(nèi)液體中的微氣泡能夠在聲波的作用下從而保持振動。破壞污物與清洗件表面的吸附，引起污物層的疲勞破壞而被駁離，氣體型氣泡的振動對固體表面進行擦洗。它利用的是液體中超聲波的空化效應對物體表面污染物進行破壞撞擊，有的應用還需輔助化學清洗劑，從而達到清洗目的。

       等離子清洗機采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，工作時清洗腔中的等離子體與清洗物的表面污染物發(fā)生反應并灰化，短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉，同時污染物被真空泵抽走，其清洗程度達到分子級。等離子清洗器除了具有超清洗功能外，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學鍵發(fā)生重組，形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、生命科學、高分子科學、生物醫(yī)學、微觀流體學等領域。 

　　等離子清洗機的應用，起源于20世紀初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應用越來越廣，目前已在眾多高科技領域中，居于關鍵技術的地位，等離子清洗技術對產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟和人類文明影響最大，首推電子資訊工業(yè)，尤其是半導體業(yè)與光電工業(yè)。 

       所以當需要對精密產(chǎn)品或者不適合液體清洗產(chǎn)品進行清洗時推薦微波等離子清洗機，而允許液體清洗的應用則可以權衡考慮是選擇超聲波清洗機還是等離子清洗機。有的工藝應用甚至是前一工段進行超聲波清洗，后一工段緊接著是等離子清洗。兩者沒有絕對誰好誰壞，只是要選擇符合工藝要求的清洗方式而已。