等離子清洗機是什么  

　　等離子清洗機選用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地防止了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗機外接一臺真空泵，作業(yè)時清洗腔中的等離子體與清洗物的表面污染物產(chǎn)生反應(yīng)并灰化，短時間的清洗就可以使有機污染物被徹底地清洗掉，一同污染物被真空泵抽走，其清洗程度到達分子級。等離子清洗器除了具有超清洗功用外，在特定條件下還可根據(jù)需求改變某些材料表面的功能，等離子體效果于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵產(chǎn)生重組，構(gòu)成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料，在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不光加強了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性，并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛使用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。 

　　等離子清洗機的使用，起源于20世紀初，跟著高科技工業(yè)的快速發(fā)展，其使用越來越廣，目前已在很多高科技領(lǐng)域中，居于關(guān)鍵技術(shù)的位置，等離子清洗技術(shù)對工業(yè)經(jīng)濟和人類文明影響最大，首推電子資訊工業(yè)，尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。 等離子表面處理

　　等離子清洗機已使用于各種電子元件的制造，可以堅信，沒有等離子清洗機及其清洗技術(shù)，就沒有今天這么興隆的電子、資訊和通訊工業(yè)。此外，等離子清洗機及其清洗技術(shù)也使用在光學(xué)工業(yè)、機械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上，并且是產(chǎn)品提高的關(guān)鍵技術(shù)，比如說光學(xué)元件的鍍膜、延伸模具或加工工具壽數(shù)的抗磨耗層，復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的制造，超微機械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的行進，才開發(fā)結(jié)束。 

　　等離子技術(shù)是一新式的領(lǐng)域，該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng)，此為典型的高科技工業(yè)，需跨多種領(lǐng)域，包含化工、材料和電機，因而將極具挑戰(zhàn)性，也布滿機遇，由于半導(dǎo)體和光電材料在未來得快速生長，此方面使用需求將越來越大。 

2、等離子清洗機的技術(shù)原理

2.1 什么是等離子體 

　　等離子體是物質(zhì)的一種存在情況，一般物質(zhì)以固態(tài)、業(yè)態(tài)、氣態(tài)3種情況存在，但在一些特殊的情況下可以以第四中情況存在，如太陽表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的情況稱為等離子體情況，又稱位物質(zhì)的第四態(tài)。

　　等離子體中存在下列物質(zhì)。處于高速運動情況的電子；處于激活情況的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；分子解離反應(yīng)過程中生成的紫外線；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍堅持電中性情況。真空等離子清洗設(shè)備

3、等離子清洗原理簡介

3.1、金屬表面清洗 

    金屬表面常常會有油脂、油污等有機物及氧化層，在進行濺射、油漆、粘合、健合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前，需求用等離子處理來得到徹底潔凈和無氧化層的表面。 在這種情況下的等離子處理會產(chǎn)生以下效果：

3.11灰化表面有機層

－表面會遭到化學(xué)炮擊

－在真空和瞬時高溫情況下，污染物部分蒸騰

－污染物在高能量離子的沖擊下被擊碎并被真空帶出

－紫外輻射破壞污染物

由于等離子處理每秒只能穿透幾個納米的厚度，所以污染層不能太厚。指紋也適用。

3.12氧化物去除

金屬氧化物會與處理氣體產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)

這種處理要選用氫氣或許氫氣與氬氣的混合物。有時也選用兩步處理工藝。第一步先用氧氣氧化表面5分鐘，第二步用氫氣和氬氣的混合物去除氧化層。也可以一重用幾種氣體進行處理。

3.13焊接

一般，印刷線路板在焊接前要用化學(xué)助焊劑處理。在焊接結(jié)束后這些化學(xué)物質(zhì)有必要選用等離子方法去除，否則會帶來腐蝕等問題。

3.14鍵合

好的鍵合常常被電鍍、粘合、焊接操作時的殘留物削弱，這些殘留物可以通過等離子方法有挑選地去除。一同氧化層對鍵合的質(zhì)量也是有害的，也需求進行等離子清潔。大氣等離子清洗

4、等離子刻蝕

在等離子刻蝕過程中，通過處理氣體的效果，被刻蝕物會變成氣相（例如在運用氟氣對硅刻蝕時，下圖）。處理氣體和基體物質(zhì)被真空泵抽出，表面連續(xù)被新鮮的處理氣體掩蓋。不希望被刻蝕部分要運用材料掩蓋起來（例如半導(dǎo)體職業(yè)用鉻做掩蓋材料）。 

等離子方法也用于刻蝕塑料表面，通過氧氣可以灰化填充混合物，一同得到分布分析情況?？涛g方法在塑料印刷和粘合時作為預(yù)處理手法是非常重要的，如POM 、PPS和PTFE。等離子處理可以大大地添加粘合濕潤面積。

5、刻蝕和灰化

PTFE刻蝕

PTFE在未做處理的情況下不能印刷或粘合。眾所周知，運用活潑的堿性金屬可以增強粘合才干，但是這種方法不容易把握，一同溶液是有毒的。運用等離子方法不僅僅保護環(huán)境，還能到達更好效果。      

等離子結(jié)構(gòu)可以使表面最大化，一同在表面構(gòu)成一個活性層，這樣塑料就可以進行粘合、印刷操作。    

PTFE混合物的刻蝕

PTFE混合物的刻蝕有必要非常細心地進行，防止填充物被過度露出，然后削弱粘合力。 

處理氣體可以是氧氣、氫氣和氬氣。可以使用于PE、PTFE、TPE、POM、ABS和丙烯。

6、塑料、玻璃和陶瓷的表面活化和清潔

塑料、玻璃、陶瓷與聚丙烯、PTFE相同是沒有極性的，因而這些材料在印刷、粘合、涂覆前要進行處理。一同，玻璃和陶瓷表面的纖細金屬污染也可以用等離子方法清潔。等離子處理與灼燒處理比較不會損害樣品。一同還可以非常均勻地處理整個表面，不會產(chǎn)生有毒煙氣，中空和帶縫隙的樣品也可以處理。    

等離子表面處理的效果可以簡單地用水來驗證，處理過的樣品表面徹底被水濕潤。長時間的等離子處理（大于15分鐘），材料表面不光被活化還會被刻蝕，刻蝕表面具有最大濕潤才干。常用的處理氣體為：空氣、氧氣、氬氣、氬氫混合氣體、CF4等。

7、等離子涂鍍

聚合     

在涂鍍中兩種氣體一同進入反應(yīng)艙，氣體在等離子環(huán)境下匯聚合。這種使用比活化和清潔的要求要嚴厲一些。典型的使用是保護層的構(gòu)成，使用于燃料容器、防刮表面、類似PTFE質(zhì)料的涂鍍、防水涂鍍等。涂鍍層非常薄，一般為幾個微米，此刻表面的親和力非常好